| Resumen: | Un aparato litográfico abarca un regulador que tiene una conexión de serie por lo menos de dos integradores y de un circuito de salida del integrador para derivar una cantidad de la salida de la conexión de serie de integradores. Además, el regulador abarca un saturador del integrador que se junte operativo el circuito de salida del integrador y a tener un área de funcionamiento para pasar con la cantidad de la salida y un área de la saturación para saturar la cantidad de la salida. Un mecanismo del control de la saturación para la saturación que controla fija una cantidad de la salida de por lo menos uno de los integradores conectados serie a un valor neutral, cuando el saturador del integrador está en el área de la saturación, a menos que cuando la cantidad de la salida de o una cantidad de la entrada de por lo menos uno de los integradores conectados serie tiene un valor tales que tendería para traer el saturador del integrador del área de la saturación al área de funcionamiento. De este modo, retrasa la hora para el regulador, cuando en el área de la saturación, de conseguir al área de funcionamiento, se reduce. Por lo menos uno de los integradores conectados serie puede abarcar una etapa de la amplificación y una etapa del integrador conectadas con una salida de la etapa de la amplificación, una amplificación de la etapa de la amplificación que está bajo control de un mecanismo del cambio del parámetro, así una transferencia bumpless puede ser alcanzada. |
| Patente EE.UU. Documento(s): | |
| De Relaciones Exteriores de Referencia(s): | |
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| Demanda (s): | El abarcar litográfico del aparato: - un sistema de la radiación para proporcionar una viga de la proyección de la radiación; - una estructura para los medios que modelan de soporte, los medios que modelan de la ayuda que sirven para modelar la viga de la proyección según un patrón deseado; - una tabla del substrato para sostener un substrato; - un sistema de la proyección para proyectar la viga modelada sobre una porción de la blanco del substrato; y - un regulador para controlar una cantidad física del aparato, caracterizado en eso el regulador abarca: - una conexión de serie por lo menos de dos integradores; - un circuito de salida del integrador para derivar una cantidad de la salida de la conexión de serie de integradores de una cantidad respectiva de la salida de por lo menos uno de los integradores de la conexión de serie de integradores; - un saturador del integrador, juntado operativo el circuito de salida del integrador y a tener un área de funcionamiento para pasar con la cantidad de la salida y un área de la saturación para saturar la cantidad de la salida; y - un mecanismo del control de la saturación para la saturación que controlaba, porque fijar una cantidad de la salida de por lo menos una de la serie conectó los integradores con un valor neutral, cuando el saturador del integrador está en el área de la saturación, a menos que cuando la cantidad de la salida de o una cantidad de la entrada de por lo menos uno de los integradores conectados serie tiene un valor tales que tendería para traer el saturador del integrador del área de la saturación al área de funcionamiento. El aparato según la demanda 1, en donde el regulador más futuro abarca tender un puente sobre los medios para tender un puente sobre por lo menos uno de los integradores conectados serie bajo control de los medios de un control que tienden un puente sobre para tender un puente sobre por lo menos el que está de los integradores conectados serie basados en un criterio predeterminado. El aparato según la demanda 2, en donde el criterio predeterminado abarca por lo menos uno de un grupo que abarca un arranque del sistema de control, una inestabilidad del sistema de control, una condición de sobrecarga, y una condición de error. |
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| Descripción: | La actual invención se relaciona con abarcar litográfico del aparato:
un sistema de la radiación para proporcionar una viga de la proyección de la radiación;una estructura de la ayuda para los medios que modelan de soporte, el modelar significa la porción para modelar la viga de la proyección según un patrón deseado;una tabla del substrato para sostener un substrato;un sistema de la proyección para proyectar la viga modelada sobre una porción de la blanco del substrato; yun regulador para controlar una cantidad física del aparato.La actual invención se relaciona más lejos con un método de fabricación del dispositivo que abarca los pasos de:
proporcionando un substrato que por lo menos es cubierto parcialmente por una capa de material sensible a la radiación;abastecimiento de una viga de la proyección de la radiación usando un sistema de la radiación;usar modelar significa dotar la viga de la proyección con un patrón en su sección representativa; yproyección de la viga modelada de la radiación sobre una porción de la blanco de la capa de material sensible a la radiación, ycontrolar una cantidad física del método.Además, la invención se relaciona con un regulador para controlar un quantitity físico.El término “que modela significa” como aquí empleado debe ser interpretado ampliamente mientras que refiriendo a los medios que se pueden utilizar para dotar una viga entrante de la radiación con una sección representativa modelada, correspondiendo a un patrón que deba para ser creado en una porción de la blanco del substrato; el término “válvula de la luz” se puede también utilizar en este contexto. Generalmente, el patrón dicho corresponderá a una capa funcional particular en un dispositivo que es creado en la porción de la blanco, tal como el circuito integrado u otro dispositivo (véase abajo). Los ejemplos de tales medios que modelan incluyen:
Una máscara. El concepto de una máscara es bien sabido en litografía, y incluye tipos de la máscara tales como defasaje binario |
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